Permanent holographic recording in indium oxide thin films using 193 nm excimer laser radiation

S. Pissadakis, S. Mailis, L. Reekie, J. S. Wilkinson, R. W. Eason, N. A. Vainos, K. Moschovis, G. Kiriakidis

Результат исследований: Вклад в журналСтатьярецензирование

22 Цитирования (Scopus)

Аннотация

Permanent holographic recording in sputtered indium oxide (InOx) thin films is demonstrated, using ultraviolet radiation at 193 nm emitted by an ArF excimer laser. Steady-state refractive index changes of up to 5×10-3 are calculated from the measured diffraction efficiency of a HeNe laser probe beam. The recorded gratings exhibit a dynamic behaviour that relaxes to a steady-state value that depends on the oxygen partial pressure used during growth and on the recording beam intensity. The observed behaviour is explained in terms of laser-induced structural changes.

Язык оригиналаАнглийский
Страницы (с-по)333-336
Число страниц4
ЖурналApplied Physics A: Materials Science and Processing
Том69
Номер выпуска3
DOI
СостояниеОпубликовано - сент. 1999
Опубликовано для внешнего пользованияДа

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Permanent holographic recording in indium oxide thin films using 193 nm excimer laser radiation». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать