Continuous wave ultra violet laser induced frustration of etching in congruent lithium niobate

S. Mailis, C. Riziotis, R. W. Eason

Результат исследований: Вклад в конференциюДокументрецензирование

Аннотация

Light-induced frustration of etching in congurent lithium niobate using continuous wave ultra violet laser was studied. The periodic ridges that were exhibited after chemical etching corresponded exactly to the illuminating beam track. Micro-Raman analysis of the etch frustrated area showed small broadening and shifting of some spectral lines, compared with unaffected material, indicating structural modifications of the surface.

Язык оригиналаАнглийский
Страницы645-646
Число страниц2
СостояниеОпубликовано - 2002
Опубликовано для внешнего пользованияДа
СобытиеConference on Lasers and Electro-Optics (CLEO 2002) - Long Beach, CA, Соединенные Штаты Америки
Продолжительность: 19 мая 200224 мая 2002

Конференция

КонференцияConference on Lasers and Electro-Optics (CLEO 2002)
Страна/TерриторияСоединенные Штаты Америки
ГородLong Beach, CA
Период19/05/0224/05/02

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Continuous wave ultra violet laser induced frustration of etching in congruent lithium niobate». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать